有客戶問到這樣的問題：“使用你們的氨基磺酸銦電鍍液得到20 μm的銦鍍層需要多長時間？”為了方便大家理解和輕松計算，在下面的內容中，有把計算推導的步驟列出來。計算過程很簡單，只需用到初中學到的知識—— 把三價銦離子（In3+）還原為銦原子（In）共需要多少個電子？對！答案是3。

三價銦離子（In3+）所需要電(荷)量和時間關系應該如何計算呢？

這就又要回到初中時學到的電流公式i = q/t。推導過程如下：

但如果陰極上銦沉積的效率達不到100%，就意味著需要更長電鍍時間。如下面公式σ是電鍍效率，那么花費時間將增加1/σ倍。例如，電鍍效率為50%，電鍍時間則是1/0.5=2倍時間。因此，結合效率，新的電鍍時間方程為：

再把已知數(shù)據(jù)代入上面公式中，計算可得：

結果顯示：電鍍20μm厚度所需要時間約為34分鐘。這里還有一個更簡單的公式來估算鍍層厚度和電鍍時間（分鐘）：

其中30.676被稱為“Shital銦電鍍常數(shù)”。

銦泰公司的氨基磺酸銦電鍍液具有90%電鍍效率。從上面的公式可知，更高的效率意味著更短的電鍍時間。電流密度從10-20mA/cm2提升到100mA/cm2，且電鍍溫度保持在20-25°C。這樣，電鍍時間將減少至原來的1/5，即約7分鐘就可以完成20μm電鍍。

從1930年代銦泰公司的創(chuàng)始人開發(fā)出最早商用銦電鍍液，如今，這項技術還廣泛地應用于半導體倒裝芯片和晶圓鍵合。先將銦電鍍到晶圓上，可以“長出”高密度、低間距和高縱橫比的銦凸塊。銦金屬質地柔軟、可塑性強、延展性好和良好的潤濕性可確保鍵合界面實現(xiàn)可靠的連接，即使銦凸塊表面不平坦或出現(xiàn)錯位。此外，銦具有低溫穩(wěn)定性，因此被用于低溫泵和在接近絕對零度的溫度下使用的設備中，非常適合在極端環(huán)境（如航空航天）中應用。

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