銦泰提供的鎵化合物包括三氯化鎵(GaCl₃)和氧化鎵(Ga₂O₃)。

鎵是制造化合物半導(dǎo)體器件的重要材料。在形成GaN外延層時(shí)，一般使用化學(xué)蒸鍍(CVD)技術(shù)。而CVD鎵前體（三甲基鎵）一般是用高純度的三氯化鎵做成的。

氧化鎵在由銦、鎵和鋅的氧化物組成的濺射靶材中必不可少。IGZO（銦鎵鋅氧化物）或GIZO濺射靶材被用于新一代顯示器，由于這種顯示器的電流大、像素密度高，要求使用性能更好的材料。GIZO材料適用于在顯示器有源矩陣底板上沉積適配薄膜晶體管的高遷移率的有源通道。